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File:CMOS fabrication process.svg

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    Descrizione
    English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale.
    Data
    Fonte Opera propria
    Autore
    Altre versioni
    SVG sviluppo
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    7 225 byte

    2 176 pixel

    512 pixel

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    attuale18:29, 9 ott 2011Miniatura della versione delle 18:29, 9 ott 2011512 × 2 176 (7 KB)Cmglee{{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is

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